半導體超凈實驗室（通常指潔凈度較高的實驗室，如千級潔凈實驗室）的設計規(guī)范涉及多個方面，以確保實驗室能夠滿足半導體生產、研發(fā)和測試的高標準要求。以下是對半導體超凈實驗室設計規(guī)范的詳細歸納：

1、潔凈度與空氣系統(tǒng)

依據(jù)ISO 14644-1或GB 50073標準，空氣潔凈度分為多個級別（如100級、1000級等），不同區(qū)域需達到相應標準核心區(qū)（光刻、晶圓加工）需達ISO 1~5級（0.1μm顆粒控制），采用HEPA/ULPA高效過濾與層流送風（換氣≥240次/小時），維持正壓梯度（≥5Pa），阻隔污染。

HEPA/ULPA過濾器：前端捕集≥0.3μm粒子，末端ULPA過濾≤0.12μm顆粒（10?級潔凈度）。

氣流模式：FFP209E標準下，單向流（Laminar Flow）換氣次數(shù)≥15次/h，亂流（Turbulent Flow）≥20次/h。

2、溫濕度與材料

溫度控制：通常將溫度控制在20~25℃之間，波動幅度不超過±2℃（也有說法為22±1℃）。

濕度控制：相對濕度保持在40%60%之間，波動幅度不超過±5%（也有說法為30%50%，允許誤差在±1%的范圍內）。為實現(xiàn)精準控制，建議采用集中式空調系統(tǒng)，并配備溫濕度傳感器，實現(xiàn)實時監(jiān)測與調節(jié)。

3、布局與振動控制

實驗室應明確劃分為潔凈區(qū)、非潔凈區(qū)和輔助區(qū)域。潔凈區(qū)包括工藝操作間、設備間和測試間，用于半導體材料的處理、測試和存儲；非潔凈區(qū)包括辦公區(qū)、休息區(qū)以及物料存儲區(qū)，用于人員辦公、休息和物料的暫時存放；輔助區(qū)域則包括更衣室、風淋室、氣閘室等，用于人員的凈化處理。

分區(qū)設計（核心區(qū)、支持區(qū)、更衣區(qū)），生產、輔助及生活區(qū)域分開布置，減少交叉污染,人流/物流分離，設備間距≥1.5m。采用浮筑地板（隔振≤3Hz）與電磁屏蔽（銅網(wǎng)/鋼板），保障設備精度。

4、特種系統(tǒng)與安全

超純氣體（6N級）、超純水（18.2 MΩ·cm）及防泄漏管道系統(tǒng)；防火防爆、廢氣處理（洗滌塔/VOC吸附）與應急設施全方位保障安全。

建筑結構應具備一定的承重能力和抗震性能，選用耐火材料，符合消防規(guī)范,設置緊急疏散通道、消防設備和緊急停機按鈕等。進入無塵室的人員必須穿戴適當?shù)臐崈舴⑼ㄟ^空氣淋浴去除攜帶的塵埃。

5、材料選擇與施工要求

結構材料：潔凈室墻壁和頂板建議采用50mm厚的夾芯彩鋼板制造（也有說法為防靜電彩鋼板），圓弧墻角、門、窗框等一般使用專用氧化鋁型材制作。地面可以選擇環(huán)氧自流平地坪或高級耐磨塑料地板（也有說法為使用密閉性良好的鋁蜂窩夾層板作為天花板材料）。送回風管道應采用熱鍍鋅板，并配備具有保溫效果的阻燃型PF發(fā)泡塑膠板。

燈具選擇：應選用潔凈燈具，避免灰塵積累或散射。

施工規(guī)范：嚴格執(zhí)行潔凈室施工規(guī)范，確保每個密封接口的完整性，避免空氣滲漏造成污染。。

通過多維度協(xié)同設計，半導體超凈實驗室可在納米級工藝精度、百萬級潔凈度保持及全年99.999%可用性之間實現(xiàn)平衡，支撐5nm以下節(jié)點的量產需求。